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ニトリロ三酢酸を配位子とする
硫黄架橋混合金属サンドイッチキュバン型
カドミウムモリブデン七核錯体
（錯陰イオン）

[Cd{S₄Mo₃(Hnta)₃}₂]^4-

nitrilotriacetic acid, H₃nta = N(CH₂COOH)₃

Sulfur-Bridged Sandwich Cubane-Type
Molybdenum-Cadmium Cluster with Nitrilotriacetate Ligands

Nonspin, D_3d

化学式：[Cd{S₄Mo₃(Hnta)₃}₂]^4-[Animated GIF, 386 KB]
原子数：135
原子種数：17
軌道数：69
総電子数：1020
スピン分極：考慮に入れない計算(ノンスピン版SCAT)
MSCF：SCFS
サンプル点数：100000
F15ファイルサイズ：745 MB
10サイクルの計算時間：60 分 17 秒(Watcom Fortran 77 Version 11.0c)
対称軌道：D_3d135

文献：

((1))Genta Sakane, Hideki Kawasaki, Takashi Oomori, Mikio Yamasaki, Hirohiko Adachi, and Takashi Shibahara; "Cubane-Type Molybdenum-Zinc or -Cadmium Mixed-Metal Clusters with Diethyldithiophosphate or Nitrilotriacetate Ligands", Journal of Cluster Science, 13(1), 75-102 (2002).

((2))Genta Sakane, Hideki Kawasaki, Mikio Yamasaki, Hirohiko Adachi, and Takashi Shibahara;
"Sulfur-Bridged Cubane-Type Molybdenum-Cadminium Clusters with Diethyldithiophosphato or Nitrilotriacetato Ligands",
Chemistry Letters, 631-632(1999).

((3))○Genta Sakane, Hideki Kawasaki, Mikio Yamasaki, Takashi Shibahara, and Hirohiko Adichi,
"Synthesis and Characterization of Cubane-Type Molybdenum-Cadmium Mixed-Metal Cluster",
Third Japan-China Joint Symposium on the Chemistry of Metal Cluster Complexes, Okazaki Conference Center, Institute for Molecular Science, Okazaki, October 4 (Sun), 1998,
Abstract, L6, (1998).

((4))○Genta Sakane, Takashi Shibahara, and Hirohiko Adachi,
"Electronic Structure of Sandwich Cubane-Type Cluster with Molybdenum-Cadmium-Sulfur(Mo₃S₄CdS₄Mo₃) Core",
Korea-Japan Discrete Variational X alpha Joint Symposium, 11th DV-X alpha Annual Meeting, Hoam Convention Center, Seoul National University, Korea, August 3-5, 1998,
ＤＶ-Ｘα研究協会会報(Bulletin of the Society for Discrete Variational Xα), 11 (1), A3, pp. 30-32 (1998).

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●contrd + VENUS で作画するのに必要なファイルは、まとめてこちらからダウンロードできます（zipで圧縮してあります）。
　　→　complex02.zip(f01,f09,f39,c04d,complex02.vcs) [download] 897 KB　2005.01.15

　　・contrd入力ファイル：c04d (ascii, 1 KB), f09 (binary, 403 KB), f39 (binary, 707 KB)

　　・VICS入力ファイル：f01 (ascii, 6 KB), c04d (ascii, 1 KB)

　　・VICS出力ファイル：complex02.vcs (ascii, 21 KB)

　　・VEND入力ファイル：contrd g [Enter]を実行することにより生成されます。

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【F01】　←クリックするとご覧いただけます【6 KB】
　　　　　※dv2f01でF05より作成したF01です。

【F05】　←クリックするとご覧いただけます【28 KB】
　　　　　※単結晶Ｘ線構造解析で求めた原子間距離・角度より、錯陰イオン部分にD_3d対称があるものと仮定して、Z-Matrixを組んで求めた座標を用い、手作りで作成したF05（SCAT計算が収束した後のF05）です。座標は最終的に、プログラムd3d1, d3d6, d3d12を使って完全にD_3d対称となるように求めました。

【F25】　←クリックするとご覧いただけます【117 KB】
　　　　　※対称軌道作成プログラム“SymWave”で作成したF25（D_3d対称、135原子17原子種用）です。
　　　　　※SymWave: 井本英夫, ＤＶ-Ｘα研究協会会報(Bulletin of the Society for Discrete Variational Xα), 3, 21-1〜21-6 (1990).

【WAVNUM】　←クリックするとご覧いただけます【19 KB】
　　　　　※wavnumの出力結果です。分子軌道の番号の一覧です。

【c04d】　←クリックするとご覧いただけます【1 KB】
　　　　　※contrdの一般入力ファイルです。

【F08E】　←クリックするとご覧いただけます【37 KB】
　　　　　※計算結果（分子軌道のエネルギー準位一覧）です。

【F08E.prests】　←クリックするとご覧いただけます【58 KB】
　　　　　※prestsでF08Eより作成したF08E.prestsです。占有軌道と空軌道のエネルギー間隔の一覧です。

【F05MOLDA.XYZ】　←クリックするとご覧いただけます【7 KB】
　　　　　※dv2moldaでF05より作成したF05MOLDA.XYZです。Molda for Windowsで読み込むことができる座標ファイルです。

【F05C3D.INP】　←クリックするとご覧いただけます【6 KB】
　　　　　※dv2chem3dでF05より作成したF05C3D.INPです。Chem3Dで読み込むことができる座標ファイルです。

【F05.daph】　←クリックするとご覧いただけます【8 KB】
　　　　　※dv2daphでF05より作成したF05.daphです。結晶解析ユニバーサルプログラムシステム UNICS の DAPH で読み込むことができる座標ファイルです。
　　　　　※UNICS: 桜井敏雄編, 日本結晶学会, (1967).
　　　　　※DAPH: 芦田玉一編, 大阪大学大型計算機センター, (1973).

【F05.daph.out】　←クリックするとご覧いただけます【39 KB】
　　　　　※daphを起動し、F05.daphを読み込んで、原子間距離・角度を計算した結果出力ファイルです。
　　　　　※DAPH: 芦田玉一, HITAC 5020E version, (1966).

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【計算した錯体（錯陰イオン部分）の全景（棒球模型）】
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：136 KB，中上図：104 KB，右上図：134 KB】
【左下図：143 KB，中下図：141 KB，右下図：136 KB】

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【電子密度の図】(Isosurface level: 0.02a₀^-3)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：177 KB，中上図：153 KB，右上図：213 KB】
【左下図：208 KB，中下図：176 KB，右下図：162 KB】

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【静電ポテンシャルの図】(Isosurface level: +0.57 Ry, -0.57 Ry)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：148 KB，中上図：178 KB，右上図：208 KB】
【左下図：208 KB，中下図：197 KB，右下図：150 KB】

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【等電子密度表面における静電ポテンシャルの図】
【The electrostatic potential painted charge density surface for [Cd{S₄Mo₃(Hnta)₃}₂]^4-】
(電子密度のIsosurface level: 0.03a₀^-3, 静電ポテンシャルのSurface Colorization Scale: 0.5)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 251 x 251 x 251
◎VENDでのSmoothing: does not apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：187 KB，中上図：181 KB，右上図：196 KB】
【左下図：206 KB，中下図：200 KB，右下図：179 KB】


[S size, Animated GIF, 111 KB]
[M size, Animated GIF, 1.44 MB]
[L size, Animated GIF, 3.22 MB]
等電子密度表面における静電ポテンシャルの図のGIFアニメーション
（※上の画像をクリックすると、GIFアニメーション画像をご覧いただけます）
※ファイルサイズが大きいので、ご注意ください。

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【 highest occupied molecular orbital, HOMO(最高被占分子軌道) = 64a_1g軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：161 KB，中上図：167 KB，右上図：195 KB】
【左下図：200 KB，中下図：187 KB，右下図：150 KB】

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【 HOMOの１つ下の二重縮退軌道 84e_g軌道の１番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：161 KB，中上図：167 KB，右上図：190 KB】
【左下図：142 KB，中下図：135 KB，右下図：114 KB】




【 HOMOの１つ下の二重縮退軌道 84e_g軌道の２番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：163 KB，中上図：151 KB，右上図：196 KB】
【左下図：198 KB，中下図：186 KB，右下図：153 KB】

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【 HOMOの２つ下の二重縮退軌道 83e_u軌道の１番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：163 KB，中上図：155 KB，右上図：202 KB】
【左下図：201 KB，中下図：187 KB，右下図：150 KB】




【 HOMOの２つ下の二重縮退軌道 83e_u軌道の２番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：164 KB，中上図：165 KB，右上図：195 KB】
【左下図：198 KB，中下図：185 KB，右下図：152 KB】

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【 lowest unoccupied molecular orbital, LUMO(最低空分子軌道) = 61a_2u軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：162 KB，中上図：167 KB，右上図：197 KB】
【左下図：199 KB，中下図：186 KB，右下図：150 KB】

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【 LUMOの１つ上の二重縮退軌道 84e_u軌道の１番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：170 KB，中上図：152 KB，右上図：200 KB】
【左下図：195 KB，中下図：183 KB，右下図：158 KB】




【 LUMOの１つ上の二重縮退軌道 84e_u軌道の２番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：169 KB，中上図：169 KB，右上図：193 KB】
【左下図：201 KB，中下図：186 KB，右下図：156 KB】

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【 LUMOの２つ上の二重縮退軌道 85e_g軌道の１番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：173 KB，中上図：168 KB，右上図：192 KB】
【左下図：201 KB，中下図：187 KB，右下図：159 KB】




【 LUMOの２つ上の二重縮退軌道 85e_g軌道の２番目軌道の図】(Isosurface level: +0.001a₀^-3/2, -0.001a₀^-3/2)
◎contrdでのメッシュ数(c04dの1行目): 151 x 151 x 151
◎VENDでのSmoothing: apply
※図をクリックすると大きな画像をご覧いただけます
【左上図：177 KB，中上図：154 KB，右上図：203 KB】
【左下図：197 KB，中下図：184 KB，右下図：162 KB】

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